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J-GLOBAL ID：201702262253186032   整理番号：17A0550500

CVDホモエピ薄膜中に形成されるドーム状成長丘の微細構造

著者 (4件)： 坪内信輝 (産総研 先進パワエレRC) ,  小倉政彦 (産総研 先進パワエレRC) ,  杢野由明 (産総研 先進パワエレRC) ,  牧野俊晴 (産総研 先進パワエレRC)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.16p-P3-12  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 化学蒸着 ,  *ホモエピタクシー ,  *ドーム構造 ,  微細構造 ,  *薄膜 ,  プラズマCVD ,  薄膜成長 ,  *エピタキシャル膜 ,  マイクロ波プラズマCVD ,  ダイヤモンド膜
準シソーラス用語： CVD【化学蒸着】 ,  MPCVD ,  ダイヤモンド薄膜

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： CVD ,  薄膜 ,  ドーム ,  成長 ,  丘 ,  微細構造