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J-GLOBAL ID：201702262313560861   整理番号：17A0412066

固定化光触媒反応システムにおける最適TiO_2膜厚のための明示的相関【Powered by NICT】

An explicit correlation for optimal TiO₂ film thickness in immobilized photocatalytic reaction systems

著者 (2件)： Padoin Natan (Chemical Engineering Graduate Program (PosENQ), Department of Chemical and Food Engineering (EQA), Federal University of Santa Catarina (UFSC), Florianopolis, SC 88040-900, Brazil) ,  Soares Cintia (Chemical Engineering Graduate Program (PosENQ), Department of Chemical and Food Engineering (EQA), Federal University of Santa Catarina (UFSC), Florianopolis, SC 88040-900, Brazil)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 310  号： P2  ページ： 381-388  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 特にマイクロ流体工学に基づく,新しい反応器設計は固定化光触媒系における物質移動とフォトニック抵抗の最小化を可能にし,大規模応用に適した機器の概念を可能にした。固定化膜では,二照射機構は,すなわち,背面照射(BSI)と前面照射(FSI)である。各ケースでは,多孔質マトリックス内の開発異なる濃度プロファイル,したがって,明確な最適条件が期待されている。最適膜厚を予測する固定化光触媒反応器全体の最適化のためのアルゴリズムの重要なパラメータである。本研究では,入射照射(I_λ,_0),見かけの一次反応定数(k_r,app),有効拡散係数(D_eff)と吸収係数(κ_λ)の関数としてBSIとFSI機構に最も適した膜厚さの予測のための明示的な方程式を提案した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： アルゴリズム ,  反応器 ,  濃度分布 ,  一次反応 ,  *光触媒 ,  最適条件 ,  *膜厚 ,  物質移動 ,  最適化 ,  マイクロフルイディクス ,  吸収係数 ,  多孔性 ,  *光触媒反応
準シソーラス用語： 有効拡散係数 ,  *固定化 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 展望 ,  固定化反応器 ,  照明機構 ,  明示的相関 ,  最適膜厚

分類 (3件)： ろ過,遠心分離  (XD02050X) ,  資源回収利用  (SC05060V) ,  反応工学,反応速度論  (XE01020M)

タイトルに関連する用語 (4件)： 固定化 ,  光触媒反応 ,  膜厚 ,  相関