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J-GLOBAL ID：201702262442137245   整理番号：17A0756913

2被覆近似空間の間のマッピング【Powered by NICT】

Mappings between Two Covering Approximation Spaces

著者 (3件)： Ma Li-Wen ,  Zhao Zhen-Gang ,  Li Ya-Jie
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： ISAI  ページ： 109-114  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 写像による二被覆近似空間の間の関係を検討した。Cマッピング,Nマッピング,Mマッピング,Sマッピングなど二被覆近似空間の間のいくつかの写像を定義し,これらの写像の下で,変換前後変換後の各サブセットの下限と上限近似の変化を検討した。もこれらの写像の関係を議論し,いくつかの重要な結果を得た。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 部分集合 ,  *被覆 ,  *近似法 ,  写像
準シソーラス用語： *近似空間 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： システム・制御理論一般  (IA02010H) ,  論理代数  (JB03000H) ,  土壌化学  (FB04040C)

タイトルに関連する用語 (2件)： 近似空間 ,  マッピング