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J-GLOBAL ID：201702262707451608   整理番号：17A0763307

ヘテロレプチック配位子の組をもつフォーカスド電子ビーム誘起堆積の有望な前駆体,(η³-C₃H₅)Ru(CO)₃Br,の低エネルギー電子誘起分解

Low energy electron-induced decomposition of (η³-C₃H₅)Ru(CO)₃Br, a potential focused electron beam induced deposition precursor with a heteroleptic ligand set

著者 (4件)： Thorman Rachel M. (Science Institute and Department of Chemistry, University of Iceland, Reykjavik, Iceland. [e-mail]) ,  Brannaka Joseph A. ,  McElwee-White Lisa ,  Ingolfsson Oddur
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 19  号： 20  ページ： 13264-13271  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 異なる配位子がFEBID前駆体の電子誘起フラグメンテーションにおよぼす影響を比較するために特別に設計された,フォーカスド電子ビーム誘起堆積(FEBID)の有望な前駆体であるπ-アリルルテニウムトリカルボニルブロミド,(η³-C₃H₅)Ru(CO)₃Br,の低エネルギー電子誘起フラグメンテーションを詳細に報告した。特に,解離的電子付着(DEA)および解離的イオン化(DI)の効率をアリル,ブロミド,カルボニル配位子の電子誘起脱離と比較して考察した。ここで得られた知見を既報の同じ前駆体に関する文献の薄膜表面照射研究とあわせて,FEBIDにおけるDEA感受性の増大のためのFEBID前駆体の設計戦略を提案した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *電子ビーム蒸着 ,  *化学蒸着 ,  前駆体 ,  *ルテニウム錯体 ,  *配位子効果 ,  カルボニル錯体 ,  ブロモ錯体 ,  フラグメンテーション ,  電子付着 ,  イオン化 ,  解離 ,  電子刺激脱離 ,  薄膜 ,  電子照射 ,  分子設計 ,  分子ビーム ,  断面積 ,  アルケニルラジカル
準シソーラス用語： 電子誘起脱離 ,  反応断面積

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  白金族元素の錯体  (CE01100E) ,  電子と分子の衝突・散乱  (BH07030A)

物質索引 (1件)： アリル

タイトルに関連する用語 (9件)： 配位子 ,  フォーカス ,  電子ビーム誘起堆積 ,  前駆体 ,  Ru ,  CO ,  エネルギー電子 ,  誘起 ,  分解