文献

J-GLOBAL ID：201702262851509917   整理番号：17A0062420

ALON/TIALON_D//_M/CUスペクトル選択的吸収コーティングの高温真空安定性の研究【JST・京大機械翻訳】

Thermal Stability of AlON/TiAlON_D /TiAlON_M /Cu Solar Selective Coating at High Temperature under Vacuum

著者 (4件)： Dong Yabin (Department of Energy Material and Technology,General Research Institute for Nonferrous Metals) ,  Du Miao (Department of Energy Material and Technology,General Research Institute for Nonferrous Metals) ,  Liu Xiaopeng (Department of Energy Material and Technology,General Research Institute for Nonferrous Metals) ,  Hao Lei (Department of Energy Material and Technology,General Research Institute for Nonferrous Metals)
資料名： Xiyou Jinshu  (Xiyou Jinshu)
巻： 40  号： 9  ページ： 896-901  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2058A  ISSN： 0258-7076  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 結果は,選択的吸収コーティングの多層膜構造と微細構造がアニーリングの前後に安定であることを示した。時層のALON層とTIALON_D層は非晶質構造で,TIALON_M層は非晶質と分散した結晶粒から成る。550°Cで24時間アニールすると,TIALON_M層が結晶化し,結晶粒が成長した。アニーリング過程において,O元素は,ALON層からTIALON層に拡散し,一方,N元素は,TIALON層からALON層に拡散し,そして,膜の界面領域は,広がった。高温真空処理の後,コーティングの吸収率はわずかに低下し,放射率は不変のままであった。結晶化によりTIALON_M層の吸光度が低下し,NとO元素の拡散により最適化構造が破壊されるのは被覆吸収率の減衰の主な原因である。被覆の真空安定化活性化エネルギーは189.2であった。5KJ・MOL(-1)の被覆は良好な熱安定性を示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 多層膜 ,  放射率 ,  *選択吸収 ,  活性化エネルギー ,  界面 ,  非晶質 ,  *被覆 ,  熱安定性 ,  真空処理 ,  焼なまし ,  吸光度 ,  結晶粒 ,  *高温 ,  吸収係数 ,  最適化

著者キーワード (5件)： solar selective coating ,  thermal stability ,  crystallization ,  elements diffusion ,  activation energy

分類 (4件)： 溶射  (WC08030N) ,  機械的性質  (WB02030U) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (7件)： Cu ,  スペクトル ,  選択的吸収 ,  コーティング ,  真空 ,  安定性 ,  研究