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J-GLOBAL ID:201702263065949813   整理番号:17A1763884

超分子形成メカニズムと外部刺激応答性

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資料名:
巻: 66  号: 12  ページ: 675-679  発行年: 2017年12月01日 
JST資料番号: F0168A  ISSN: 0454-1138  CODEN: KOBUA3  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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協調的自己組織化は,外部刺激に対して非常に敏感な超分子システムを作り出すための重要な概念である。溶液中の超分子構造変化は,通常,UV-Vis吸収,円偏光二色性(CD)およびNMRスペクトルなどの分光測定を用いて濃度または温度に応じて検出することが可能である。平衡ポリマーの多段階開放会合プロセスを考慮して適切な熱力学モデルを適用することによって,自己集合のプロセスを定量的に分析することができる。自己集合のプロセスが高度に協同的である場合,超分子ポリマーの連鎖成長反応は濃度および温度の明確な閾値を有する。液体/固体界面で形成された二次元(2-D)自己集合体のための熱力学モデルを開発した。グラファイト基板への吸着物の表面被覆率の濃度依存性において,著者らは,2-D自己集合系が高度に協同的である場合に,濃度に依存する表面被覆率が顕著に鋭くなることを見出した。この概念に基づいて,光互変性ジアリールエテン誘導体からなる2次元分子秩序を用いることにより,光応答性の高い2次元自己組織化が達成された。
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分類 (3件):
分類
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反応速度論・触媒一般  ,  反応工学,反応速度論  ,  光化学反応 
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