文献
J-GLOBAL ID：201702263204442560
整理番号：17A0389681
一次元薄膜初期成長における局所累積サイズの漸近解析
Asymptotic analysis for cumulative local size for one-dimensional submonolayer growth
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著者 (1件)：
資料名：
巻：
29
号：
1
ページ：
ROMBUNNO.290105 (WEB ONLY)
発行年：
2017年02月01日
JST資料番号：
U0159A
ISSN：
0915-0935
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
日本 (JPN)
言語：
日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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金属薄膜でのエピタキシャル初期成長では,島状構造などの様々な大きさの金属微結晶が基板上に形成される。薄膜の材料である金属原子は蒸着源から一定の速度で入射され,基板上を拡散する。薄膜初期成長の実験結果を説明するために,局所累積サイズの漸近解析法について検討した。次元解析法を構築し,局所累積サイズの漸近解析法を導出した。局所累積サイズは,核生成した被覆率と捕獲した金属原子の累積数で定義した。数値計算結果を示し,解析解と数値解の比較を行った。スケールした局所累積サイズが,ギャップ長と蒸着時間の変数の関数として表現されることが分かった。
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (1件)：
分類
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金属薄膜
タイトルに関連する用語 (5件)：
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