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J-GLOBAL ID:201702263314645571   整理番号:17A0402813

ガス検出のためのスパッタNiO薄膜の構造的,光学的および電気的性質【Powered by NICT】

Structural, optical and electrical properties of sputtered NiO thin films for gas detection
著者 (3件):
資料名:
巻: 395  ページ: 208-213  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,ナノ構造変化,室温で作製したスパッタ法による酸化ニッケル膜の光学的および電気的性質を系統的に調べた。50nm及び100nm厚の膜を,DC反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積した。500°Cでのアニーリング後,膜は多結晶(fcc)NiO相構造を有していた。微結晶のサイズは100nm厚さの厚さ50nmのNiO膜の8~28nmから7~26nmであった。アニールしたNiO薄膜の両方の結晶粒は規則的で平坦なエッジを持つ多面体形態を示した。アニールしたNiO膜は高度に透明で,500~900nmのスペクトル範囲で約70 90%ことが観察された。二重Schottky障壁は,種々のガス雰囲気に曝露される上のNiO薄膜の伝導率に影響を及ぼす二つの隣接粒子間で見られた。厚さ50nmのNiO薄膜を,100~250°Cの温度範囲で100nmの厚さのNiO膜と比較して水素に導電性の大きな差を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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酸化物薄膜  ,  光物性一般  ,  半導体結晶の電気伝導 
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