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J-GLOBAL ID：201702263384496208   整理番号：17A1675661

テルルカドミウム水銀赤外検出器の透過構造設計【JST・京大機械翻訳】

Design of Anti reflective Structures on HgCdTe Substrate at Very Long Wavelength Infrared

著者 (5件)： Zheng Hua (復旦大学信息科学与工程学院,上海超精密光学制造工程技術研究中心,上海200433) ,  Fan Hua (中国科学院上海技術物理研究所中国科学院紅外成像材料与器件重点実験室,上海,200083) ,  Wang Ziyi (復旦大学信息科学与工程学院,上海超精密光学制造工程技術研究中心,上海200433) ,  Wei Yanfeng (中国科学院上海技術物理研究所中国科学院紅外成像材料与器件重点実験室,上海,200083) ,  Zhang Rongjun (復旦大学信息科学与工程学院,上海超精密光学制造工程技術研究中心,上海200433)
資料名： Shiyanshi Yanjiu yu Tansuo  (Shiyanshi Yanjiu yu Tansuo)
巻： 36  号： 1  ページ： 46-48,53  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1514A  ISSN： 1006-7167  CODEN： SYYTAZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 非常に長い波長帯をもつHgCdTe赤外検出器に対して、薄い光学膜あるいは光学構造を設計し、反射率が10%より低い反射防止効果を実現するために、反射防止膜系とフォトニック結晶の二種類の設計に分けた。光学的薄膜理論に基づいて,3層と4層ZnS/YbF3膜を,それぞれ2つのアルゴリズムによって最適化した。シミュレーション計算により、設計した反射防止膜は8~16 μmの広帯域スペクトル範囲内で赤外検出器表面の反射を大幅に減少でき、平均反射率は5%以下であり、しかも0°~60°の入射角範囲内では明らかな減逆効果がある。また、フォトニック結晶の周期性ナノピラー構造の設計により、14~16μmのバンドの平均反射率が5%より低い設計案を得た。二つの方法は異なる考え方の長い波減衰設計を提供し、逆膜系は相対的に簡単で安価で、大規模生産が容易である。フォトニック結晶の設計,生産技術の要求は高いが,特性はより安定で信頼できる。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 最適化 ,  反射防止膜 ,  波長 ,  *赤外検出器 ,  アルゴリズム ,  フォトニック結晶 ,  入射角 ,  テルル化カドミウム水銀 ,  硫化亜鉛 ,  反射率 ,  スペクトル ,  広帯域
準シソーラス用語： ナノピラー ,  光学薄膜 ,  反射防止 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： very long wavelength ,  antireflective structures ,  photonic quasi-crystal ,  reflection

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (6件)： テルル ,  カドミウム ,  水銀 ,  赤外検出器 ,  透過 ,  構造設計