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J-GLOBAL ID：201702263602426208   整理番号：17A0449339

流動層光触媒反応器における2,4 ジクロロフェノキシ 酢酸の光触媒酸化の反応速度に及ぼすpHの影響【Powered by NICT】

Impact of pH on the kinetics of photocatalytic oxidation of 2,4-dichlorophenoxy acetic acid in a fluidized bed photocatalytic reactor

著者 (2件)： Rezaei Reza (Department of Chemical and Biological Engineering, University of British Columbia, 2360 East Mall, Vancouver, BC, V6T 1Z3 Canada) ,  Mohseni Madjid (Department of Chemical and Biological Engineering, University of British Columbia, 2360 East Mall, Vancouver, BC, V6T 1Z3 Canada)
資料名： Applied Catalysis. B: Environmental  (Applied Catalysis. B: Environmental)
巻： 205  ページ： 302-309  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0375A  ISSN： 0926-3373  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2,4 ジクロロフェノキシ 酢酸(2,4 D)の光触媒酸化の反応速度に及ぼすpHの影響を調べた。実験はTiO_2光触媒球を用いた流動層光触媒反応器中で行った。酸化速度は溶液pHに影響された。酸性媒質中では,動力学モデルによれば,酸化速度は高い速度定数を直接UV強度(I)に関連していたががこの関係はpH=7で機能的平方根(すなわち,I~1/2)に減少した。添加では,pHは光触媒酸化機構を変化させることをもたらした。pHが7では,光触媒酸化を,光触媒表面,酸化速度に続く一次動力学から離れた。酸性条件下で,一方,酸化は大部分,光触媒の表面上で起こり,酸化速度はLangmuir-Hinshelwoodと一次反応速度論モデルの組み合わせに従った。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *光触媒反応 ,  *光触媒 ,  ヒドロキシルラジカル ,  酸性 ,  *流動層 ,  *反応速度 ,  正孔 ,  脂肪酸 ,  薬物
準シソーラス用語： 一次反応速度論 ,  酸性条件 ,  紫外線強度 ,  速度定数 ,  動力学モデル ,  酸化速度 ,  *光触媒酸化 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 光触媒酸化 ,  pH ,  動力学 ,  ヒドロキシルラジカル ,  正孔

分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (1件)： 酢酸

タイトルに関連する用語 (6件)： 流動層 ,  光触媒反応 ,  酢酸 ,  光触媒酸化 ,  反応速度 ,  pH