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J-GLOBAL ID：201702263752559943   整理番号：17A0059303

ラマン散乱に基づくグラフェン/酸化物の熱伝達研究【JST・京大機械翻訳】

Thermal Transport Study of Graphene/SiO_2 Interface Based on Two-Step Raman Thermometry

著者 (4件)： Li Man (School of Power and Mechanical Engineering, Wuhan University) ,  Zhao Xiaolong (Department of Physics, Wuhan University) ,  Xiao Xiangheng (Department of Physics, Wuhan University) ,  Yue Yanan (School of Power and Mechanical Engineering, Wuhan University)
資料名： Gongcheng Rewuli Xuebao  (Gongcheng Rewuli Xuebao)
巻： 37  号： 9  ページ： 1945-1951  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2102A  ISSN： 0253-231X  CODEN： KCJPDF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 本論文では,単一層グラフェンとシリカ基板の間の界面熱抵抗とグラフェンの熱伝導率を測定するために,二段階測定法を提案した。第一段階では定常電流加熱グラフェンを用い,ラマン応答を用いて基板との温度差を測定し,次にグラフェンと基底との間の界面熱抵抗を測定した。第二段階ではレーザー加熱によりラマン散乱信号から異なる加熱パワーでのグラフェンの局所温度を得て,点熱源熱拡散モデルによりグラフェンの熱伝導率を導出した。非拘束状態の下で,グラフェンは加熱状態で明らかな形態変化(しわ,局所剥離基底など)を有するため,大きな接触熱抵抗をもたらすことが分かった。同時に,界面でのフォノン散乱と漏れにより,基底状態でのグラフェンの熱伝導率が低いことが分かった。本論文では,拉曼熱測定技術を用いて,グラフェンの界面熱抵抗とグラフェン熱伝導率の同時測定と非接触測定を同時に実現した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 熱量測定 ,  レーザ加熱 ,  界面 ,  *グラフェン ,  同時計測 ,  熱源 ,  非接触測定 ,  基底状態 ,  基底 ,  接触熱抵抗 ,  熱伝導率 ,  *Raman散乱
準シソーラス用語： フォノン散乱 ,  温度差 ,  界面熱抵抗 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Raman scattering ,  graphene ,  thermal conductivity ,  interfacial thermal resistance

分類 (4件)： 比熱・熱伝導一般  (BL05021E) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  熱伝導  (PA02020Z) ,  非金属のその他の熱的性質  (BL05040J)

タイトルに関連する用語 (5件)： ラマン散乱 ,  グラフェン ,  酸化物 ,  熱伝達 ,  研究