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J-GLOBAL ID：201702264295316472   整理番号：17A1359486

集積フォトニクスのための調整可能なHMMベースデバイス【Powered by NICT】

Tunable HMM-based devices for integrated photonics

著者 (3件)： Janaszek B. (Institute of Microelectronics and Optoelectronics WUT, Koszykowa 75, 00-662 Warsaw, Poland) ,  Tyszka-Zawadzka A. (Institute of Microelectronics and Optoelectronics WUT, Koszykowa 75, 00-662 Warsaw, Poland) ,  Szczepanski P. (Institute of Microelectronics and Optoelectronics WUT, Koszykowa 75, 00-662 Warsaw, Poland)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： SUM  ページ： 73-74  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 利用可能性の観点から刺激感受性材料に基づく調整可能な双曲型メタ材料(HMM)の機能性を実証した。例えば光遅延/緩衝液,反射変調器,または選択的増幅器は,制御可能な利得スペクトルと統合システム内の実現可能性に置かれた。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 増幅器 ,  *集中方式 ,  感受性 ,  変調器
準シソーラス用語： 利得スペクトル ,  光遅延 ,  機能性 ,  メタマテリアル ,  *フォトニクス , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光集積回路,集積光学  (BD06050D)

タイトルに関連する用語 (3件)： 集積 ,  フォトニクス ,  HMM