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J-GLOBAL ID：201702264588570320   整理番号：17A1258076

OCVを意識したトップレベルクロックツリー合成のための工業デザイン方法論【Powered by NICT】

An industrial design methodology for the synthesis of OCV-aware top-level clock tree

著者 (5件)： Kao Hsu-Yu (Department of Electronic Engineering, Chung Yuan Christian University, Taoyuan City, Taiwan) ,  Lee Yu (Department of Electronic Engineering, Chung Yuan Christian University, Taoyuan City, Taiwan) ,  Huang Shih-Hsu (Department of Electronic Engineering, Chung Yuan Christian University, Taoyuan City, Taiwan) ,  Cheng Wei-Kai (Department of Information & Computer Engineering, Chung Yuan Christian University, Taoyuan City, Taiwan) ,  Chou Yih-Chih (Physical Design Methodology Department, Global Unichip Corporation, Taipei City, Taiwan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： ISNE  ページ： 1-3  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 現代のVLSI設計では,特徴サイズは収縮し続けるオンチップ変動(OCV)は深刻になっている。特に,トップレベルクロックツリーにおける,OCV誘導クロックスキューは長いワイヤのために適切に制御すべきである。本論文では,トップレベルクロックツリーのOCV誘導クロックスキュー最小化のための実用的な工業的設計方法論を提示した。著者らの基本的な考え方は,クロックツリー合成のためのガイド緩衝液を前にした非共通経路のワイヤ長さは減少することができた。数とガイドバッファの位置を決定するための新しいアルゴリズムを開発した。産業チップを用いた実験により,提案アプローチでは,非共通経路(全体経路)の割合を大幅に低減でき,OCV誘起クロックスキューの低減は42.4%を達成することを示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *金属線 ,  アルゴリズム
準シソーラス用語： クロックスキュー ,  オンチップ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 集積回路一般  (NC03161C) ,  半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (3件)： 意識 ,  工業 ,  デザイン方法論