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J-GLOBAL ID:201702264976807518   整理番号:17A0884239

マイカ上での三元トポロジカル絶縁体Bi_2Te_2Se2D結晶のエピタキシャル成長【Powered by NICT】

Epitaxial Growth of Ternary Topological Insulator Bi2Te2Se 2D Crystals on Mica
著者 (14件):
資料名:
巻: 13  号: 18  ページ: ROMBUNNO.201603572  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2348A  ISSN: 1613-6810  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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三元トポロジカル絶縁体(TI)Bi_2Te_2Seのナノ構造は,原理的に,トポロジー的に非自明な表面状態の発現に有利な,そのバルク結晶対応物と比較して有意に増強された表面対体積比によるものであった。van der Waalsエピタクシー法による雲母上の2D Bi_2Te_2Se結晶の合成を検討し,系統的に合成プロセス中の成長挙動を調べた。それに応じて,50μmまでの大きなドメインサイズを持つ2D Bi_2Te_2Se結晶と厚さ2nmまでが得られた。顕著な弱い反局在効果を,2Kにおいて2D Bi_2Te_2Se結晶で明瞭に観測した。2D三元Bi_2Te_2Se結晶のエピタキシャル成長方法をTIの微妙な表面状態の発現増強に向けた材料工学を,次世代スピントロニクスにおける潜在的応用を促進する。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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半導体薄膜 
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