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J-GLOBAL ID:201702265048808648   整理番号:17A1722896

バルクおよび薄膜ニオブ酸リチウムの表面分域エンジニアリング:系統的実験的研究【Powered by NICT】

Surface domain engineering in bulk and thin film lithium niobate: A systematic experimental study
著者 (8件):
資料名:
巻: 2017  号: CLEO/Europe-EQEC  ページ:発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ニオブ酸リチウム(LN)は,非線形と集積光学で使用され,確立されている。効率的な非線形周波数変換を結晶分域の周期的ポーリングを介して相互作用する波の準位相整合により可能となった。小型化した光デバイスを実現するために,絶縁体(LNOI)基板上でのニオブ酸リチウムの応用がますます重要になっている。LNOIはシリカ層の頂部[1]上のLN薄膜から構成されている。LNOIウエハを通した共通の電場ポーリング[2]を用いた絶縁シリカ層によって妨げられる。[3 5]のみ表面ポーリング技術を用いることができる。,電場がxカットLN膜の面内z軸に沿って基板表面に平行に適用した。本研究では,著者らはバルクLNとLNOIの表面分域工学,分域パターンの品質を最適化するための目的を系統的に研究した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
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非線形光学  ,  固体デバイス製造技術一般 

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