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J-GLOBAL ID:201702265110888461   整理番号:17A1963275

高相対湿度による周囲条件のナノワイヤと基板との間の剥離挙動の理論的解析【Powered by NICT】

A theoretical analysis of peeling behavior between nanowires and substrates in the ambient condition with high relative humidity
著者 (6件):
資料名:
巻: 114  ページ: 243-253  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0966A  ISSN: 0167-6636  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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周囲条件でのマイクロ/ナノスケールでは,毛管力とvan der Waals(vdW)力の両方は,ミクロおよびナノelectrodevicesの接着力を支配している。本研究では,高い相対湿度の環境条件におけるナノワイヤと基板の間の剥離挙動は毛管力とvdW力の組合せ効果の下で連続体モデリングを用いて解析した。毛管力が熱力学的平衡状態におけるKelvinの式とYoung-Laplace方程式の両方を解いて求められているが,熱力学的非平衡状態中のYoung-Laplace方程式と体積方程式の両方を解いて導いた。vdW力は凝集エネルギー対距離の一次導関数から導出した。修正Kendallモデルからの解析結果は,ナノワイヤと基板の間の剥離挙動は,剥離角,プレテンション,半径,およびナノワイヤのYoung率に強く依存することを示した。特に,ナノワイヤと比較して液体ブリッジ位置の効果と剥離力に及ぼすナノワイヤの曲げ剛性の両方を修正Kendallモデルによって考察した。提示した解は,ナノデバイスの構造安定性理解とナノ電気機械システムを設計するために大きな助けとすべきである。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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破壊力学一般 
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