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J-GLOBAL ID：201702265501669896   整理番号：17A1220868

ナノトレンチの対称ジブロック共重合体の形態に及ぼす壁電位の影響

Effect of wall potential on morphology of symmetric diblock copolymers in nanotrench

著者 (3件)： YOSHIDA Akihisa (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  YOSHIMOTO Kenji (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  OHSHIMA Masahiro (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 55  号： 6S1  ページ： 06GE01.1-06GE01.6  発行年： 2016年06月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,モンテカルロ(MC)シミュレーションを実行することによって,狭い溝内の対称ポリ(スチレン-b-メチルメタクリレート)(PS-b-PMMA)ジブロックコポリマーの形態を調べた。そして,PMMAから成る魅力的なトレンチ壁とPS-b-PMMAとの間の2つのタイプの相互作用を検討した。まず,指数型の壁電位をPMMAセグメントに印加して,壁に引き寄せた。これは,粗粒MCモデルに広く用いられている。第2の場合,最初にトレンチ壁の近くに配置されたPMMAブロックのみが壁に吸着された。どちらの場合も,トレンチが約1.0L₀(L₀:バルク中のラメラ期間)まで広げられるたびに,PMMA薄層の数が段階的に増加した。しかし,かなり薄いPMMA層のために,第2の場合のトレンチ幅は,第1の場合のトレンチ幅よりも,約0.7L₀ずれていた。これらの結果は,ジブロックコポリマーとトレンチ壁との間の界面特性の重要性を示唆している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ジブロック共重合体 ,  *シミュレーション ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  *トレンチカット【掘削】 ,  *特性
準シソーラス用語： *モンテカルロシミュレーション ,  PMMA ,  *界面特性

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (34件)：

• M. Neisser and S. Wurm, Adv. Opt. Technol. 4, 235 (2015).
• S. B. Darling, Prog. Polym Sci. 32, 1152 (2007).
• D. J. C. Herr, J. Mater. Res. 26, 122 (2011).
• S. O. Kim, H. H. Solak, M. P. Stoykovich, N. J. Ferrier, J. J. de Pablo, and P. F. Nealey, Nature 424, 411 (2003).
• S. J. Jeong, H. S. Moon, B. H. Kim, J. Y. Kim, J. Yu, S. Lee, M. G. Lee, H. Y. Choi, and S. O. Kim, ACS Nano 4, 5181 (2010).

タイトルに関連する用語 (5件)： トレンチ ,  対称 ,  ジブロック共重合体 ,  形態 ,  電位