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J-GLOBAL ID：201702265714857244   整理番号：17A0697027

Hg~0除去に対するKI含浸活性炭と煙道ガス成分の特性の影響【Powered by NICT】

Effect of characteristics of KI-impregnated activated carbon and flue gas components on Hg⁰ removal

著者 (8件)： Tong Li (Beijing Municipal Institute of Labor Protection, Beijing 100054, China) ,  Yue Tao (Beijing Municipal Institute of Labor Protection, Beijing 100054, China) ,  Yue Tao (State Key Laboratory of Clean Energy Utilization, Institute for Thermal Power Engineering, Zhejiang University, Zhejiang 310058, China) ,  Zuo Penglai (Beijing Municipal Institute of Labor Protection, Beijing 100054, China) ,  Zhang Xiaoxi (Beijing Municipal Institute of Labor Protection, Beijing 100054, China) ,  Wang Chenlong (Beijing Municipal Institute of Labor Protection, Beijing 100054, China) ,  Gao Jiajia (Beijing Municipal Institute of Labor Protection, Beijing 100054, China) ,  Wang Kun (Beijing Municipal Institute of Labor Protection, Beijing 100054, China)
資料名： Fuel  (Fuel)
巻： 197  ページ： 1-7  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0023A  ISSN： 0016-2361  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： KIを含浸した活性炭(KI AC)は,模擬煙道ガス下で元素水銀(Hg~0)除去のためのその能力を調べるために合成した。Hg~0除去性能はKI負荷によって著しく促進された。Hg~0除去に及ぼす反応温度と活性炭気孔率,および吸着した水銀種の脱着活性化エネルギーの計算の影響を用いて,KI ACおよびHg~0除去能力の物理化学的特性の間の関係を同定した。反応温度を上げるとHg~0除去のプロセスにおける物理吸着の機能を弱めた。吸着した水銀化学種分析のBrunauer-Emmett-Teller(BET)表面積と脱着活性化エネルギーはHg~0除去は,物理吸着と化学吸着の組合せを介して生じると,化学吸着が反応を支配することを示す。さらに,KI AC上のHg~0除去に及ぼす煙道ガス成分の影響を評価し,吸着機構を提案した。O_2の存在によりI~ イオンの酸化はHg~0除去を容易にする本質的な理由である。Hg~0除去性能はSO_3~2 /SO_4~2~ の生成によって促進され,競合吸着だけでなくI_2分子の消費によりフラストレートしたわずかにである。NOの高濃度はHgO生成物の生成を阻害した。しかし,KI AC試料は活性N含有基との反応のために,NOの存在下でのHg~0除去に対する高度に活発なままである。,Hg~0間の親和性容量とKI AC上に生成した様々なグループは,N→S含有基に従った。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 物理吸着 ,  脱着 ,  *含浸 ,  反応温度 ,  活性化エネルギー ,  *活性炭 ,  表面積 ,  空隙率 ,  *煙道ガス ,  化学吸着 ,  水銀 ,  競争吸着 ,  物理化学的性質
準シソーラス用語： 吸着機構 ,  除去性能 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 活性炭 ,  KI ,  Hg~0 ,  煙道ガス組成 ,  機構

分類 (2件)： 水銀とその化合物  (SB05023Z) ,  有害ガス処理法  (SC04030H)

タイトルに関連する用語 (5件)： KI ,  含浸 ,  活性炭 ,  煙道 ,  ガス成分