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J-GLOBAL ID：201702265772745505   整理番号：17A0639129

化学溶液析出で成長させたZnO-SiO₂コア-シェル薄膜のpH依存研究

pH Dependent Studies of Chemical Bath Deposition Grown ZnO-SiO₂ Core-Shell Thin Films

著者 (5件)： SETH Rajni (Maharishi Markandeshwar Univ., Ambala, IND) ,  PANWAR Sanjay (Maharishi Markandeshwar Univ., Ambala, IND) ,  KUMAR Sunil (Dongguk Univ., Seoul, KOR) ,  KANG T. W. (Dongguk Univ., Seoul, KOR) ,  JEON H. C. (Dongguk Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of the Korean Physical Society  (Journal of the Korean Physical Society)
巻： 70  号： 1  ページ： 98-103  発行年： 2017年01月13日 
JST資料番号： T0357A  ISSN： 0374-4884  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 韓国 (KOR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 溶液成長 ,  *酸化亜鉛 ,  *二酸化ケイ素 ,  コアシェル構造 ,  薄膜 ,  薄膜成長 ,  *pH依存性 ,  スペクトル ,  バンドギャップ ,  Urbach則 ,  電子顕微鏡観察 ,  半導体材料
準シソーラス用語： 化学溶液析出 ,  透過スペクトル

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (8件)： 化学溶液析出 ,  成長 ,  ZnO ,  SiO2 ,  コア-シェル ,  薄膜 ,  pH ,  研究