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J-GLOBAL ID：201702266463130271   整理番号：17A1250026

負の誘電率をもつ導電性ポリ(ふっ化ビニリデン)/Ni鎖複合膜の調整可能な電磁遮蔽特性【Powered by NICT】

Tunable electromagnetic shielding properties of conductive poly(vinylidene fluoride)/Ni chain composite films with negative permittivity

著者 (2件)： Zhao Biao (Microcellular Plastics Manufacturing Laboratory, Department of Mechanical and Industrial Engineering, University of Toronto, 5 King’s College Road, Toronto M5S 3G8, Canada. [e-mail]) ,  Park Chul B.
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 5  号： 28  ページ： 6954-6961  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,溶液処理と圧縮成形法を用いて種々のNi含有量と種々のポリ(フッ化ビニリデン)(PVDF)/Ni鎖状複合材料を作製した。PVDF/Ni鎖複合材料の誘電率,電気伝導率,および電磁干渉(EMI)遮蔽特性の詳細な研究を行った。高濃度Ni(6wt%および12wt%)を用いて,誘電率が負の値,PVDFマトリックス中の導電性ネットワークの形成に起因していた。も負の誘電率の生成を検討し,Ni含有量を増加させ,それらの電気伝導率とEMI遮蔽特性は改善されたによりPVDF/Ni鎖は「自然メタマテリアル」として使用できる可能性があると結論した。さらに,EMI遮蔽特性は複合材料膜の厚さに密接に関係している。厚さ0.2mm,0.3mm,0.4mm,0.5mmでPVDF/6wt%-Ni複合膜の平均EMI特性は15.4dB,24.7dB,30.3dB,35.4dBであった。遮蔽機構は主に吸収によって支配された。PVDF/Ni鎖複合材料であり,PVDFマトリックス中に三次元網を形成することをNiの二重損失機構とユニークな鎖状構造に関わるにおける散逸機構の可能性を提案した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電磁干渉 ,  *電磁遮蔽 ,  複合材料 ,  三次元 ,  *誘電率 ,  *導電性 ,  ポリフッ化ビニリデン ,  圧縮成形 ,  電気伝導率 ,  *複合膜 ,  ネットワークアーキテクチャ ,  *ニッケル
準シソーラス用語： 鎖状構造 ,  メタマテリアル ,  *負の誘電率 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  誘電体一般  (BM05010F)

タイトルに関連する用語 (6件)： 負の誘電率 ,  導電性 ,  ふっ化ビニリデン ,  Ni ,  複合膜 ,  電磁遮蔽