文献

J-GLOBAL ID：201702266644778462   整理番号：17A0407423

高透明イットリアセラミックの低温焼結と微細構造【Powered by NICT】

Low temperature-sintering and microstructure of highly transparent yttria ceramics

著者 (9件)： Zhang Le (Jiangsu Key Laboratory of Advanced Laser Materials and Devices, School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University, Xuzhou, 221116, China) ,  Zhang Le (School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, 30332, USA) ,  Ben Yue (Jiangsu Key Laboratory of Advanced Laser Materials and Devices, School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University, Xuzhou, 221116, China) ,  Chen Hao (Jiangsu Key Laboratory of Advanced Laser Materials and Devices, School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University, Xuzhou, 221116, China) ,  Tang Dingyuan (Jiangsu Key Laboratory of Advanced Laser Materials and Devices, School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University, Xuzhou, 221116, China) ,  Fu Xianzhu (Guangdong Provincial Key Laboratory of Materials for High Density Electronic Packaging, Shenzhen Institutes of Advanced Technology, Chinese Academy of Sciences, Shenzhen, 518055, China) ,  Sun Rong (Guangdong Provincial Key Laboratory of Materials for High Density Electronic Packaging, Shenzhen Institutes of Advanced Technology, Chinese Academy of Sciences, Shenzhen, 518055, China) ,  Song Bo (School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, 30332, USA) ,  Wong Chingping (School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, 30332, USA)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 695  ページ： 2580-2586  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高透明イットリアセラミックを共沈法により粉末から合成した非常に低い温度で真空予備焼結と熱間静水圧プレス(HIP)処理によって作製することに成功した。異なる加工段階下でのセラミックスのモルフォロジーと微細構造,密度及び熱機械的変化,および光学的性質を(F)SEM,TMA,光学顕微鏡,UV-Vis-IR分光光度計でそれぞれ系統的にキャラクタライズした。イットリアセラミックの完全な緻密化は,4時間(真空予備焼結)と1400°C,3h(ポストH IP)に対して1450°Cの低温で達成することができた。作製したセラミックは均一で微細な微細構造と高い光学性能を示した。平均粒径が0.74μmと小さかった。インライン透過率は1100nm(1mm厚さ)で81.7%に達した。透明イットリアセラミックは,そのような低い予備焼結とポストH IP温度で焼結助剤無しの魅力的であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 緻密化 ,  光学的性質 ,  *微細構造 ,  *低温 ,  HIP【ホットプレス】 ,  光学顕微鏡 ,  共沈 ,  *セラミック ,  分光光度計 ,  透過率 ,  モルフォロジー
準シソーラス用語： 焼結助剤 ,  予備焼結 ,  *低温焼結 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 透明セラミック ,  真空焼結 ,  HIP ,  焼結助剤を用いない

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (4件)： イットリア ,  セラミック ,  低温焼結 ,  微細構造