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J-GLOBAL ID：201702266861628196   整理番号：17A1552969

グラフェン膜への宇宙照射誘起損傷【Powered by NICT】

Space irradiation-induced damage to graphene films

著者 (7件)： Wang Liping (Key Laboratory of Marine Materials and Related Technologies, Zhejiang Key Laboratory of Marine Materials and Protective Technologies, Ningbo Institute of Materials Technology and Engineering, Chinese Academy of Sciences, Ningbo 315201, China. [e-mail]) ,  Fan Xiaoqiang ,  Li Wen ,  Li Hao ,  Zhu Minhao ,  Pu Jibin ,  Xue Qunji
資料名： Nanoscale  (Nanoscale)
巻： 9  号： 35  ページ： 13079-13088  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 印象的な電気的,光学的,化学的および機械的性質をもつグラフェンは宇宙施設に設置された光電素子及び機械部品のための有望な潜在的用途,おそらく高エネルギー粒子照射を含む厳しい環境に直面するであろうを持っている。ここでは,原子状酸素(AO),電子(EL)とプロトン(PR)を含む大面積単層および多層グラフェン膜(約四層)の構造と性質に及ぼす模擬宇宙照射の影響を調べた。強い酸化能力を持つAOはグラフェン膜の炭素原子と反応して,二酸化炭素,高エネルギーPRを生成する衝突と励起効果を通したグラフェンにおける多形原子欠陥につながる。Miraculously,EL照射は優れた伝導率のために,グラフェン膜にほとんど損傷を引き起こす。グラフェンリップルは,照射による破壊と熱力学的安定性による基質,グラフェンの物理的および機械的性質の変化を引き起こすに関してそれらの形状または構造を採用した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 機械的性質 ,  励起 ,  陽子 ,  炭素 ,  光電素子 ,  単一層 ,  *グラフェン ,  二酸化炭素 ,  機械要素 ,  熱力学的安定度 ,  *宇宙空間 ,  基質
準シソーラス用語： 高エネルギー ,  大面積 ,  高エネルギー粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： グラフェン膜 ,  宇宙 ,  誘起 ,  損傷