ひ素に曝露された子供における細胞外マトリックスリモデリング遺伝子のDNAメチル化【Powered by NICT】

Gonzalez-Cortes Tania; Recio-Vega Rogelio; Lantz Robert Clark; Lantz Robert Clark; Chau Binh T.

文献

J-GLOBAL ID：201702266955631263 整理番号：17A1380754

ひ素に曝露された子供における細胞外マトリックスリモデリング遺伝子のDNAメチル化【Powered by NICT】

DNA methylation of extracellular matrix remodeling genes in children exposed to arsenic

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資料名：
巻： 329 ページ： 140-147 発行年： 2017年
JST資料番号： H0532A ISSN： 0041-008X CODEN： TXAPA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

ひ素の病因に関していくつかの新しい機構的知見が報告されており,それらのいくつかはヒ素誘導疾患の病因はDNAメチル化,ヒストン維持,およびmRNA発現のような後成的過程を介してゲノムに遺伝的変化に部分的に起因することを示唆する。最近,著者らは,子宮内および若年期のヒ素曝露は,高度糖化最終産物(RAGE),マトリックスメタロプロテイナーゼ-9(MMP 9)とマトリックスメタロプロテイナーゼ-1の組織阻害剤(TIMP 1)かくたんレベルの肺機能および異常受容体の障害と関連していたことを報告した。結果およびDNAメチル化に対する報告されたヒ素影響に基づいて,MMP9,TIMP1およびRAGE遺伝子のDNAメチル化をその蛋白質かくたんレベルと関連しており,尿と足指の爪のヒ素レベルとする目的で,子宮内と幼児期早期でヒ素に曝露された小児のコホートにおける本研究を設計した。結果は最も曝露された小児におけるMMP9プロモーター領域の高メチル化を明らかにした中メチル化レベル小児におけるRAGEかくたん濃度の増加とヒ素爪濃度とMMP9DNAメチル化の間に正の関連があったRAGE iAsによるDNAメチル化,及び%DMA;と最終的に最初のヒ素メチル化とTIMP1DNAメチル化であった。DNAメチル化とMMP9かくたんレベルとの間に負の相関が記録された。結論として,ヒ素濃度は細胞外マトリックスリモデリング遺伝子のDNAメチル化に関連した陽性であった;にそれらが引き起こすまたは肺疾患への素因に関与する生物学的プロセスを修飾することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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金属及び金属化合物の毒性

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