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J-GLOBAL ID：201702267218271162   整理番号：17A1194188

デジタルマイクロミラーデバイスを用いた多重露光による回折限界以下のレーザアブレーション

Sub-diffraction limit laser ablation via multiple exposures using a digital micromirror device

著者 (5件)： HEATH Daniel J. (Univ. Southampton, Southampton, GBR) ,  GRANT-JACOB James A. (Univ. Southampton, Southampton, GBR) ,  FEINAEUGLE Matthias (Univ. Southampton, Southampton, GBR) ,  MILLS Ben (Univ. Southampton, Southampton, GBR) ,  EASON Robert W. (Univ. Southampton, Southampton, GBR)
資料名： Applied Optics  (Applied Optics)
巻： 56  号： 22  ページ： 6398-6404  発行年： 2017年08月01日 
JST資料番号： B0026B  ISSN： 1559-128X  CODEN： APOPAI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *レーザアブレーション ,  *光回折 ,  限界条件 ,  多重露光 ,  *反射鏡 ,  MEMS ,  マイクロマシニング ,  パルスレーザ照射 ,  フォトレジスト ,  レーザパルス ,  レーザ加工 ,  二光子吸収 ,  分解能
準シソーラス用語： *ディジタルマイクロミラーデバイス ,  *回折限界

分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (4件)： デジタルマイクロミラーデバイス ,  多重露光 ,  回折限界 ,  レーザアブレーション