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J-GLOBAL ID：201702267244112481   整理番号：17A1380940

UV_254とUV_254/過硫酸塩プロセスによる蒸留水および模擬病院廃水中の高度に消費されるフルオロキノロン類,ペニシリン類およびセファロスポリン類の分解【Powered by NICT】

Degradation of highly consumed fluoroquinolones, penicillins and cephalosporins in distilled water and simulated hospital wastewater by UV₂₅₄ and UV₂₅₄/persulfate processes

著者 (4件)： Serna-Galvis Efraim A. (Grupo de Investigacion en Remediacion Ambiental y Biocatalisis (GIRAB), Instituto de Quimica, Facultad de Ciencias Exactas y Naturales, Universidad de Antioquia UdeA, Calle 70 No. 52-21, Medellin, Colombia) ,  Ferraro Franklin (Departamento de Ciencias Basicas, Universidad Catolica Luis Amigo, Transversal 51A No. 67B-90, Medellin, Colombia) ,  Silva-Agredo Javier (Grupo de Investigacion en Remediacion Ambiental y Biocatalisis (GIRAB), Instituto de Quimica, Facultad de Ciencias Exactas y Naturales, Universidad de Antioquia UdeA, Calle 70 No. 52-21, Medellin, Colombia) ,  Torres-Palma Ricardo A. (Grupo de Investigacion en Remediacion Ambiental y Biocatalisis (GIRAB), Instituto de Quimica, Facultad de Ciencias Exactas y Naturales, Universidad de Antioquia UdeA, Calle 70 No. 52-21, Medellin, Colombia)
資料名： Water Research  (Water Research)
巻： 122  ページ： 128-138  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0760A  ISSN： 0043-1354  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,三種のペニシリン類(アンピシリン「AMP」,オキサシリン「OXA」とクロキサシリン「CLO」),セファロスポリン二種(セファレキシン「CPX」とcephadroxyl「CPD」)と三種のフルオロキノロン類(レボフロキサシン「LEV」,ノルフロキサシン「NOR」とシプロフロキサシン「CIP」)は,最初はUV_254(UV/PS)により活性化されたUV_254と過硫酸塩で処理した。UV_254照射下で分解速度に有意差があった。光分解は次の順であった:OXA>CPX>CPD>CLO>CIP>NOR>AMP>>LEV。,光分解における直接光分解と反応性酸素種(ROS)の関与を研究するために,各クラス(OXA,CPXとCIP)のモデル抗生物質を考察した。OXAとCPXは,主に直接光分解により分解したが,CIP除去はROSと光分解を含んでいた。一方,過硫酸塩添加(UV/PSプロセス)は,低い光分解レベル(すなわちLEV,AMPとNOR)と抗生物質の場合の硫酸塩ラジカルの生成による除去,特にを改善した。代表的な抗生物質のコンピュータ計算は分解剤による求電子攻撃に感受性領域を決定するために適用した。OXAとCPXの官能基は反応性の順序に従った:チオエーテル≫β-ラクタム環>ベンゼン環。CIPに対して,ピペラジル部分はキノロン環よりも高い反応性を示した。,処理中の抗菌活性(AA)進化を試験した。CPXとCIPの場合,UV_254とUV/PSの両方がAAを除去した反応性部分の構造変化に関連したβ-ラクタム環とピペラジル環であった。しかし,OXAの場合にのみUV/PSシステムはAA,そのペニシリン電子豊富な核(チオエーテル+β-ラクタム)の変態に起因して減少した。UV_254とUV/PSの適用性は,合成病院廃水(HWW)を用いて評価した。プロセス比較は実用的な目的のために,HWWにおけるOXAとCIPはUV/PSにより処理されるべきであることを示したが,HWWにおけるCPXはUV_254とUV/PSの両方により治療できた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 感受性 ,  モデリング ,  抗細菌作用 ,  *硫酸塩 ,  *ニューキノロン系抗細菌薬 ,  *ペルオキソ硫酸塩 ,  ラジカル ,  *ペニシリン類 ,  反応性 ,  光分解 ,  *セファロスポリン類 ,  抗生物質
準シソーラス用語： β-ラクタム ,  官能基 ,  分解速度 ,  *病院廃水 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 構造効果 ,  抗生物質除去 ,  分解経路 ,  変換分析 ,  抗菌活性除去 ,  光化学治療

分類 (2件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

タイトルに関連する用語 (10件)： 過硫酸塩 ,  プロセス ,  蒸留水 ,  病院 ,  廃水 ,  消費 ,  フルオロキノロン類 ,  ペニシリン類 ,  セファロスポリン類 ,  分解