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J-GLOBAL ID：201702267563595188   整理番号：17A1357575

支援ディジタル選択的ナノ材料処理レーザにおける最近の進歩【Powered by NICT】

Recent progress in laser assisted digital selective nanomaterial processing

著者 (1件)： Ko Seung Hwan (Applied Nano and Thermal Science Lab, Department of Mechanical Engineering, Seoul National University, Seoul, Korea)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： MARSS  ページ： 1-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レーザは種々のパラメータ選択範囲で材料処理のための非常にユニークで有用なツールである。典型的なレーザプロセスの主な機構は,高い制御性を有する所望の位置で閉じ込められた温度場を生成する光誘起熱反応である。レーザ誘起選択的温度上昇はガスおよび液体環境の両方と同様に溶融または蒸発によるナノ材料の光物理的処理を含む種々の環境におけるナノ材料の合成のための選択的化学反応,レーザ焼結およびアブレーション過程による表現を可能にした。本レビューでは,種々の熱に敏感な基板上のナノ材料プロセスと合成のための選択的ディジタルレーザ処理における最近の進歩。このレーザベースプロセスは,従来のフォトリソグラフィー系エレクトロニクス作製プロセスが可能されていない新しいデバイス作製を達成することができる。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *レーザ ,  アブレーション ,  熱化学反応 ,  フォトリソグラフィー ,  *ナノ材料 ,  化学反応 ,  可制御性 ,  電子技術 ,  昇温 ,  *ディジタル方式 ,  レーザ焼結 ,  温度場
準シソーラス用語： 光物理学 ,  レーザ誘起 ,  光誘起 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 圧粉,焼結  (WC02030X) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 支援 ,  ディジタル ,  ナノ材料 ,  レーザ