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J-GLOBAL ID：201702267914645897   整理番号：17A1550674

高性能TiO_2ナノチューブ反射防止コーティング【Powered by NICT】

High performance TiO₂ nanotubes antireflection coating

著者 (4件)： Rodriguez Daniel Fabian (Departamento de Micro y Nanotecnologia, Centro Atomico Constituyentes, Comision Nacional de Energia Atomica, Av. Gral. Paz 1499 (1650) Bs As., Argentina) ,  Perillo Patricia Maria (Departamento de Micro y Nanotecnologia, Centro Atomico Constituyentes, Comision Nacional de Energia Atomica, Av. Gral. Paz 1499 (1650) Bs As., Argentina) ,  Barrera Marcela Patricia (Departamento de Energia Solar, Centro Atomico Constituyentes, Comision Nacional de Energia Atomica, Av. Gral. Paz 1499 (1650) Bs As., Argentina) ,  Barrera Marcela Patricia (Consejo Nacional de Investigaciones Cientificas y Tecnicas, Av. Rivadavia 1917 (1033) Bs As., Argentina)
資料名： Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)
巻： 71  ページ： 427-432  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1055A  ISSN： 1369-8001  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,反射防止膜としてTiO_2層の利用を解析した。TiO_2薄膜は130~170nmの厚さの電気化学的陽極酸化プロセスによりシリコン基板上に調製した。膜は均一なナノチューブ構造を示した。偏光解析法測定データは多層モデルを用いて解析した,底層はTiO_2の密な層であり,そして,上部層は多孔質TiO_2とボイドの混合物により形成される。屈折率の値はBruggemanの有効媒質近似によって得た。底部と頂部TiO_2サブ層の屈折率は約2.3と1.6であった。反射率の低い値は最も薄い膜で得られた。これら試料について反射率はシリコンと比較して約90%減少し,ある場合には反射率は5%以下であった。光学定数に及ぼすTiO_2薄膜とその合成パラメータの厚さの影響を検討した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 薄膜 ,  有効媒質近似 ,  *ナノチューブ ,  上層 ,  反射率 ,  偏光解析法 ,  *反射防止膜 ,  多孔性 ,  アノード酸化 ,  ケイ素 ,  多層 ,  屈折率 ,  光学定数
準シソーラス用語： *反射防止 ,  シリコンウエハ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： TiO_2 ,  反射防止 ,  分光偏光解析法 ,  ナノチューブ

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (3件)： 高性能 ,  ナノチューブ ,  反射防止コーティング