炭素スリット細孔中に閉じ込められたシクロヘキサン,オキサン,1,4 ジオキサン,1,3,5 トリオキサンのグランドカノニカルモンテカルロシミュレーション研究【Powered by NICT】

Shimoyama Takao; Tashima Keisuke; Ruike Masatoshi

文献

J-GLOBAL ID：201702268128098350 整理番号：17A1549142

炭素スリット細孔中に閉じ込められたシクロヘキサン,オキサン,1,4 ジオキサン,1,3,5 トリオキサンのグランドカノニカルモンテカルロシミュレーション研究【Powered by NICT】

Grand canonical Monte Carlo simulation study of cyclohexane, oxane, 1,4-dioxane, and 1,3,5-trioxane confined in carbon slit pore

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資料名：
巻： 533 ページ： 255-266 発行年： 2017年
JST資料番号： A0539B ISSN： 0927-7757 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

グランドカノニカルモンテカルロ(GCMC)シミュレーションを298Kで0.8nm,1.0nm,1.2nmの幅の炭素スリット細孔へのシクロヘキサン,オキサン,1,4 ジオキサン,1,3,5 トリオキサンの吸着を調べるために行った。特に,炭素スリット細孔中に閉じ込められた吸着質の分子間構造に及ぼす分子サイズ及び形状の影響に注目した。シミュレーションは,シクロヘキサンとオキサンは飽和での無秩序単層構造を形成することを示したが,1,4 ジオキサンと1,3,5 トリオキサンは幅0.8nm細孔中の二層構造を形成した。四吸着物質の中で,1,4 ジオキサンは飽和で幅0.8nm細孔中の最も規則的な充填構造を形成する;最も1,4 ジオキサン分子である細孔表面に平行および正方格子充填構造,正方形分子形状と関連している可能性を形成する。さらに,1,4 ジオキサン分子を配向させた分子におけるOO軸が交互に負電荷を持つ分子間酸素原子間のCoulomb反発を避けるために垂直と水平に配列した。さらに,この充填構造は二つの転移(ガス液体状態と固体状態への液体様状態)を介して形成され,等温圧縮率及び2d占有マップの解析から決定した。これらの遷移は,ステップと吸着等温線におけるサブステップとして明らかにされた。一方,三角形1,3,5 トリオキサンは飽和で幅0.8nmの細孔の六方晶格子充填構造を形成する;が,明確なサブステップは吸着等温線では現れなかった。これらの分子の充填構造の細孔径依存性についても検討した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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固-液界面 , 物理的手法を用いた吸着の研究

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