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J-GLOBAL ID:201702268164693522   整理番号:17A1269480

分子動力学による重力効果の下でのCu/Co多層ナノ薄膜の蒸着に関する研究【Powered by NICT】

The study on deposition of Cu/Co multilayer nano thin films under gravitational effect by molecular dynamics
著者 (1件):
資料名:
巻: 2017  号: ICASI  ページ: 1579-1582  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,真空環境における重力の影響下での分子動力学を用いた多層ナノ薄膜蒸着シミュレーションモデルを構築することができた。シミュレーション結果は,重力環境下で,表面形態が平坦であり,内部応力が大きいことを示した。より高い蒸着速度では,内部応力も増加し,薄膜の表面形態が,より不均一。基板温度の増加に伴い,堆積したナノ薄膜の内部応力は減少するが,界面結合エネルギーは増加した。また基板温度が高いほど,表面トポグラフィーがより平坦。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (5件):
分類
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金属の結晶構造  ,  結晶成長一般  ,  半導体薄膜  ,  高分子固体のその他の性質  ,  薄膜一般 

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