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J-GLOBAL ID：201702268434134561   整理番号：17A0955347

集積回路に応用可能な均一な臨界電流を持つ超伝導体-強磁性体-絶縁体-超伝導体Josephson接合の作製

Fabrication of superconductor-ferromagnet-insulator-superconductor Josephson junctions with critical current uniformity applicable to integrated circuits

著者 (5件)： ITO Hiroshi (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TANIGUCHI Soya (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ISHIKAWA Kouta (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  AKAIKE Hiroyuki (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  FUJIMAKI Akira (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 10  号： 3  ページ： 033101.1-033101.3  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大規模超伝導集積回路に使用するためのPd₈₉Ni₁₁,強磁性中間層とAlO_xトンネル障壁層を持つNb Josephson接合(JJ)を作製した。接合は,同じ設計サイズを持つ接合に対して,4.2Kで標準偏差1σが2%以下の小さな臨界電流(I_c)拡がりを示した。接合は,PdNi中間層の膜厚を操作することにより制御できる電気的挙動を示した。接合は,9nmと11nmの膜厚に対してπ-JJとして振る舞い,9nmに対して1.2%のI_c拡がりにおける1σを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *Josephson接合 ,  *集積回路 ,  *臨界電流 ,  超伝導体 ,  強磁性体 ,  絶縁体 ,  LSI【IC】 ,  ポテンシャル障壁 ,  層 ,  ニオブ ,  標準偏差
準シソーラス用語： *超伝導集積回路 ,  大規模集積回路 ,  トンネル障壁 ,  障壁層

分類 (1件)： Josephson接合・素子  (BM04043E)

引用文献 (21件)：

• D. S. Holmes, A. L. Ripple, and M. A. Manheimer, IEEE Trans. Appl. Supercond. 23, 1701610 (2013).
• S. Nagasawa, K. Hinode, T. Satoh, M. Hidaka, H. Akaike, A. Fujimaki, N. Yoshikawa, S. Nagasawa, K. Takagi, and N. Takagi, MICE Trans. Electron. E97-C, 132 (2014).
• S. K. Tolpygo, V. Bolkhovsky, T. J. Weir, L. M. Johnson, M. A. Gouker, and W. D. Oliver, IEEE Trans. Appl. Supercond. 25, 1101312 (2015).
• D. T. Yohannes, A. Inamdar, and S. K. Tolpygo, IEEE Trans. Appl. Supercond. 19, 149 (2009).
• D. L. Miller, J. X. Prybysz, and J. H. Kang, IEEE Trans. Appl. Supercond. 3, 2728 (1993). .

タイトルに関連する用語 (8件)： 集積回路 ,  応用 ,  臨界電流 ,  超伝導体 ,  強磁性体 ,  絶縁体 ,  Josephson接合 ,  作製