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J-GLOBAL ID：201702268494853609   整理番号：17A1085023

IRレーザ光源を使ってR2R処理された薄膜バリアに対する有機太陽電池のパターン転写

Patterning of organic photovoltaic on R2R processed thin film barriers using IR laser sources

著者 (6件)： FLEDDERUS H. (Holst Center, Eindhoven, NLD) ,  AKKERMAN H.B. (Holst Center, Eindhoven, NLD) ,  SALEM A. (Holst Center, Eindhoven, NLD) ,  SCHILLING N.Friedrich (Fraunhofer-Inst. Werkstoff- und Strahltechnik, Dresden, DEU) ,  SCHILLING N.Friedrich (GmbH, Dresden, DEU) ,  KLOTTZBACH U. (Fraunhofer-Inst. Werkstoff- und Strahltechnik, Dresden, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10092  ページ： 100920I.1-100920I.9  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1030nmフェムト秒,1064nmピコ秒,および1950nmナノ秒パルス赤外レーザシステムを使って,ロール・ツー・ロール(R2R)処理された薄膜バリア(すなわちPET/OCP/SiN/ITO)に対するITOの直接レーザースクライビングを調査した。三種類の試験するレーザシステムでは,バリア箔にITOを構造化するためのプロセスウィンドウを決めた。1030nmフェムト秒,1064nmピコ秒,および1950nmナノ秒レーザには,SiNとITOのアブレーション閾値に大きな差が認められたが,狭いプロセスウィンドウが存在した。パルスレーザフルエンス,書込み速度,および周波数を変えることにより,パルスの重なりを調節し,単一パルスアブレーションに続くスクライビング実験を行った。また,レーザスクライビングがバリアに損傷をもたらさないことを実証するために,光学Ca試験に基づく新しい試験法を開発した。

シソーラス用語： *太陽電池 ,  *パターン転写 ,  赤外レーザ ,  *レーザ加工 ,  超短パルスレーザ ,  酸化インジウムスズ ,  許容範囲
準シソーラス用語： ITO ,  プロセスウィンドウ ,  レーザースクライビング ,  ロール・ツー・ロール ,  有機太陽電池

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  太陽電池  (NC03084O) ,  特殊加工  (QC04000Y)

タイトルに関連する用語 (6件)： Ir ,  レーザ光源 ,  薄膜 ,  バリア ,  有機太陽電池 ,  パターン転写