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J-GLOBAL ID:201702268878377308   整理番号:17A0651851

マグネトロンスパッタリングで作製したCr膜のミクロ組織に及ぼすドーピング元素の結晶構造の影響

Influence of Doping Element Crystal Structure on the Microstructure of Cr Films by Magnetron Sputtering
著者 (5件):
資料名:
巻: 723  ページ: 464-469  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0744C  ISSN: 1013-9826  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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マグトロンスパッタリングでシリコンウエハーの表面にいろいろなドーピング元素(W-bcc,Al-fcc,Al(Ce)-fcc,Zn-hcp,C-hexagonal)を含むCr膜を蒸着した。W-bccはCr膜の(110)結晶面に沿った優先配向成長を強く妨げることができ,CrとWの単層で構成されたナノ多層構造を容易に形成した。Al-fccはCr膜の全ての結晶面に沿った優先配向を強く妨げることができた。Al(Ce)ドープのCr膜では平均結晶粒径が著しく小さくなり,希土類金属Ceの添加で結晶化度が改善された。Zn-hcpとC-hexagonalはCr原子とそれぞれ置換型固溶体と格子間固溶体を形成しCrの(110)結晶面に沿った優先配向成長の傾向を妨げた。またCrとZn(もしくはC)の単層で構成されたナノ多層構造が膜の中に形成された。
シソーラス用語:
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分類 (1件):
分類
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金属薄膜 

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