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J-GLOBAL ID:201702268880401348   整理番号:17A1181835

中性コバルト二量体の分子H_2の被覆率に依存した化学吸着のDFT研究【Powered by NICT】

DFT study of the coverage-dependent chemisorption of molecular H2 on neutral cobalt dimers
著者 (1件):
資料名:
巻: 656  ページ: 54-59  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0129B  ISSN: 0039-6028  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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中性コバルト二量体のH_2の被覆率に依存した化学吸着を研究し,θ<0.4での化学吸着した前駆体が媒介した物理吸着状態なしでの解離と0.4<θ<1では,6:1の比で,分子的及び解離的であることが分かった。は完全に側面するH_2化学吸着の間に,磁気モーメントΔμ=4.9μ_Bの非常に大きな消光および金属-金属結合強度の線形弱化,計算した振動子周波数で与えられる。コバルトクラスタ上のH_2の吸着エネルギーの被覆率依存減少を考慮した動力学モデルで実現できることを導出した近似方程式。H_2に曝露された場合にサブナノメータコバルトクラスタはサブppm範囲の非常に敏感なH_2微量ガスセンサの開発のための有用な強い被覆率依存特性を持つことを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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物理的手法を用いた吸着の研究 

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