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J-GLOBAL ID：201702269184758021   整理番号：17A1085013

レーザリフトオフ法によるCu(In,Ga)Se₂太陽電池の透明導電性酸化物の超高速レーザスクライビング: レーザ誘起損傷の制御

Ultrafast laser scribing of transparent conductive oxides in Cu(In,Ga)Se₂ solar cells via laser lift-off process: The control of laser-induced damage.

著者 (10件)： NARAZAKI Aiko (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  SATO Tadatake (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  NIINO Hiroyuki (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  TAKADA Hideyuki (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  TORIZUKA Kenji (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  NISHINAGA Jiro (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  KAMIKAWA-SHIMIZU Yukiko (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  ISHIZUKA Shogo (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  SHIBATA Hajime (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  NIKI Shigeru (AIST, Fukushima, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10091  ページ： 100911E.1-100911E.9  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CIGS薄膜太陽電池の損傷のない透明導電性酸化物(TCO)前面接触絶縁プロセス(P3)スクライビングとして,リフトオフプロセスによる超短パルスレーザースクライビング(λ=1034nm,Δτ=300fs)に焦点を合わせた。TCOリフトオフ挙動のレーザパルスエネルギーおよびTCO膜厚依存性を調べた。TCOのリフトオフにより,CIGSが溶融する溝底部の下に最大250nmの厚みの熱影響部(HAZ)が形成された。薄いTCO膜は,TCOリフトオフのために低いレーザエネルギー閾値を必要とし,これはより小さいHAZ故に,高い太陽電池効率に有利である。P3としてのTCOリフトオフを使用して,全てのレーザスクライビングによって作製した約3.5cm²の活性領域を有するサブモジュールは11.6%の変換効率を示した。

シソーラス用語： 微細加工 ,  パターン形成 ,  *太陽電池 ,  インジウム化合物 ,  ガリウム化合物 ,  セレン化物 ,  銅化合物 ,  化合物半導体 ,  半導体材料 ,  酸化物 ,  *罫書き ,  レーザパルス ,  パルスレーザ ,  効率 ,  *レーザ損傷
準シソーラス用語： CIGS ,  *CIGS太陽電池 ,  *スクライビング ,  *レーザスクライビング ,  レーザリフトオフ ,  透明導電性酸化物 ,  変換効率

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (9件)： レーザ ,  リフトオフ法 ,  Cu ,  Ga ,  太陽電池 ,  透明導電性酸化物 ,  超高速レーザ ,  スクライビング ,  レーザ誘起損傷