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J-GLOBAL ID：201702269275798342   整理番号：17A0011811

三次元ネットワーク高分子を用いた立方晶窒化ホウ素結晶上への新規炭素薄膜の合成

著者 (5件)： 島田敏宏 (北大) ,  長谷川幸樹 (北大) ,  柳瀬隆 (北大) ,  長浜太郎 (北大) ,  山口誠 (秋田大)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻： 29th  ページ： ROMBUNNO.2P048  発行年： 2016年08月29日 
JST資料番号： L2240B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜成長 ,  薄膜 ,  セラミック ,  窒化ホウ素 ,  ネットワーク構造 ,  *熱処理 ,  *Ramanスペクトル ,  *炭素薄膜 ,  真空熱処理 ,  CBN【セラミック】
準シソーラス用語： 立方晶窒化ホウ素 ,  ポリ(ヒドリドカルビン)

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高分子 ,  立方晶窒化ホウ素 ,  結晶 ,  炭素薄膜