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J-GLOBAL ID：201702269419502119   整理番号：17A1453900

太陽照射下でのスルファメトキサゾールとローダミンBの光触媒分解のための階層的花状Bi_2O_3の酢酸酸支援作製【Powered by NICT】

Acetic acid-assisted fabrication of hierarchical flower-like Bi₂O₃ for photocatalytic degradation of sulfamethoxazole and rhodamine B under solar irradiation

著者 (9件)： Bao Yueping (Interdisciplinary Graduate School, Nanyang Technological University, 637141 Singapore, Singapore) ,  Bao Yueping (Nanyang Environment and Water Research Institute, Nanyang Technological University, 637141 Singapore, Singapore) ,  Lim Teik-Thye (Nanyang Environment and Water Research Institute, Nanyang Technological University, 637141 Singapore, Singapore) ,  Lim Teik-Thye (School of Civil and Environmental and Engineering, Nanyang Technological University, 639798 Singapore, Singapore) ,  Zhong Ziyi (Nanyang Environment and Water Research Institute, Nanyang Technological University, 637141 Singapore, Singapore) ,  Wang Rong (Nanyang Environment and Water Research Institute, Nanyang Technological University, 637141 Singapore, Singapore) ,  Wang Rong (School of Civil and Environmental and Engineering, Nanyang Technological University, 639798 Singapore, Singapore) ,  Hu Xiao (Nanyang Environment and Water Research Institute, Nanyang Technological University, 637141 Singapore, Singapore) ,  Hu Xiao (School of Materials Science and Engineering, Nanyang Technological University, 639798 Singapore, Singapore)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 505  ページ： 489-499  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酢酸(CH_3COOH)の支援により,新規な3D花弁状Bi_2O_3を水熱プロセスとそれに続くか焼によって合成した。初めて,花状構造の形成におけるキャッピング剤としてCH_3COOHの役割を調べた。調製されたままの花状Bi_2O_3は2.69eVの狭いバンドギャップ,βBi_2O_3の高い割合,及び高強度極性ファセット(120)および(200)による模擬太陽光照射下でのスルファメトキサゾール(SMX)の分解に高い活性を示した。一方,光触媒分解は見かけ上の擬似一次速度式に従った。速度定数(k)は0.5~2.0gL~( 1)触媒充填量の変化で0.7×10~ 2から3.0×10~ 2分~ 1。3から11までのpH上昇値は2.2×10~ 2から0.2×10~ 2分~ 1Kの減少,SMX分子とBi_2O_3間の静電吸着に帰すことができた。ラジカル消光実験により,直接(h~+)と間接的酸化(OHと零二-)このプロセスの発生を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ラジカル ,  ファセット ,  *触媒 ,  消光 ,  バンドギャップ ,  レート方程式 ,  三次元 ,  脂肪酸 ,  薬物 ,  芳香族アミン ,  芳香族カルボン酸 ,  酸素複素環化合物 ,  キノイド化合物 ,  インモニウム ,  芳香族縮合化合物 ,  第三アミン ,  窒素複素環化合物 ,  スルホンアミド ,  第一アミン
準シソーラス用語： 静電吸着 ,  速度定数 ,  キャッピング剤 ,  *光触媒分解 ,  *太陽照射 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 花状Bi_2O_3 ,  酢酸 ,  成長機構 ,  光触媒活性 ,  劣化機構

分類 (4件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  光化学一般  (CB08010U) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

物質索引 (3件)： 酢酸 ,  ローダミンB ,  スルファメトキサゾール

タイトルに関連する用語 (9件)： 太陽照射 ,  スルファメトキサゾール ,  ローダミンB ,  光触媒分解 ,  花 ,  酢酸 ,  酸 ,  支援 ,  作製