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J-GLOBAL ID：201702269444510205   整理番号：17A0513745

in situ Raman分光法により観測したコロイド状CdSe/CdS量子ドットのシリカカプセル化の間の界面形成

Interface formation during silica encapsulation of colloidal CdSe/CdS quantum dots observed by in situ Raman spectroscopy

著者 (6件)： Biermann Amelie (Institut fuer Festkorperphysik, Technische Universitaet Berlin, Hardenbergstrae 36, 10623 Berlin, Germany) ,  Aubert Tangi (Physics and Chemistry of Nanostructures, Ghent University, Krijgslaan 281-S3, 9000 Gent, Belgium) ,  Baumeister Philipp (Institut fuer Festkorperphysik, Technische Universitaet Berlin, Hardenbergstrae 36, 10623 Berlin, Germany) ,  Drijvers Emile (Physics and Chemistry of Nanostructures, Ghent University, Krijgslaan 281-S3, 9000 Gent, Belgium) ,  Hens Zeger (Physics and Chemistry of Nanostructures, Ghent University, Krijgslaan 281-S3, 9000 Gent, Belgium) ,  Maultzsch Janina (Institut fuer Festkorperphysik, Technische Universitaet Berlin, Hardenbergstrae 36, 10623 Berlin, Germany)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 146  号： 13  ページ： 134708-134708-6  発行年： 2017年04月07日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： in situ Raman分光法によるシリカシェル中のCdSe/CdS量子ドット(QD)のカプセル化を調べ,合成の最初の数時間の間にCdSのRaman信号の明確なシフトを見出した。このシフトは,最終的なシリカシェルの厚さに依存するのではなく,最初のコア-シェルQDの特性に依存する。Ramanシフト率とシリカ形成速度との間に相関関係を見出し,これを新たに形成されたシリカとの界面が形成されるQDシェルの最外層の変化する構成に帰した。このようなRamanシフト率とシリカ形成速度への依存性は,油中水型マイクロエマルションの成長機構に関する多くの可能な研究をもたらし,このタイプの反応をモニタリングする貴重な手段となる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *Raman分光分析 ,  *コロイド ,  *量子ドット ,  *セレン化カドミウム ,  *硫化カドミウム ,  *カプセル封じ ,  Ramanスペクトル ,  スペクトルシフト ,  界面 ,  コアシェル構造 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： カプセル化【物質】 ,  形成 ,  Ramanシフト ,  シリカ

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (9件)： Raman分光法 ,  観測 ,  コロイド ,  CdSe ,  CdS ,  量子ドット ,  シリカ ,  カプセル化 ,  界面