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J-GLOBAL ID：201702269675661955   整理番号：17A0364580

ニトロアレーン水素化の化学選択性への洞察:現実的な反応条件下での金属表面上のニトロアレーン吸着のDFT-D3研究【Powered by NICT】

Insight into chemoselectivity of nitroarene hydrogenation: A DFT-D3 study of nitroarene adsorption on metal surfaces under the realistic reaction conditions

著者 (4件)： Zhang Lidong (Key Laboratory for Advanced Materials, Center for Computational Chemistry and Research Institute of Industrial Catalysis, School of Chemistry and Molecular Engineering, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, PR china) ,  Cao Xiao-Ming (Key Laboratory for Advanced Materials, Center for Computational Chemistry and Research Institute of Industrial Catalysis, School of Chemistry and Molecular Engineering, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, PR china) ,  Hu P. (Key Laboratory for Advanced Materials, Center for Computational Chemistry and Research Institute of Industrial Catalysis, School of Chemistry and Molecular Engineering, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, PR china) ,  Hu P. (School of Chemistry and Chemical Engineering, The Queen’s University of Belfast, Belfast, BT9 5AG, UK)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 392  ページ： 456-471  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニトロアレーン接触水素化の一般的な反応条件下でPt(111)およびAu(111)表面上でのニトロベンゼンと4 ニトロスチレンの吸着はニトロアレーン化合物水素化の化学選択性に及ぼす吸着配置の影響を理解するためのGrimmeの経験三体分散補正を用いた周期的密度汎関数理論計算を用いて調べた。は低被覆率でのニトロベンゼンと4 ニトロスチレンの両方がPt(111)およびAu(111)表面に平行な吸着する傾向があることが分かった。結晶軌道ハミルトンポピュレーション解析に基づいて,ニトロ基とPt(111)表面との間の化学結合が弱いことが分かった。ニトロベンゼンと4 ニトロスチレンの吸着立体配置はフェニル基とビニル基の化学吸着強さによって決定した。反応条件下で,1/9MLニトロベンゼンと4/9ML水素原子が共吸着できる1/6ML4 ニトロスチレンおよび1/3ML水素原子はPt(111)上に共吸着したことができる。被覆率の増加に伴って,ニトロベンゼンはまだその並列吸着配置である4 ニトロスチレンの吸着配置はPt(111)上のフェニル基とニトロ基の化学吸着なしにビニル基を通した傾斜吸着配置にスイッチした。添加では,水素との競争吸着は反応条件下でニトロベンゼンと4 ニトロスチレンの吸着配置を変えなかった。Au(111)上では,物理吸着強度は吸着配置を決定した。吸着質とAu(111)表面間の最短平均距離を持つ並列吸着が優先される。平行吸着配置では,これらの官能基に及ぼす水素化の化学選択性は,幾何学的配置の観点からのみ類似していた。しかし,ニトロ基の水素化はビニル基,好ましくないすることを通した傾斜吸着配置で立体障害の問題に直面した。,ニトロ基との強い化学結合を形成できる触媒,ニトロ基を介して優先的垂直吸着配置をもたらし,ニトロ基の水素化に高い選択性が期待されている。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *水素化 ,  白金 ,  *吸着 ,  密度汎関数法 ,  *水素 ,  ニトロ基 ,  化学吸着 ,  被覆率 ,  *金 ,  *芳香族ニトロ化合物 ,  立体障害 ,  物理吸着
準シソーラス用語： *反応条件 ,  *化学選択性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 吸着 ,  Pt ,  Au ,  密度汎関数理論 ,  ニトロ化合物の水素化 ,  Selectivity

分類 (1件)： 吸着の電子論  (CB12042Y)

物質索引 (1件)： ニトロベンゼン

タイトルに関連する用語 (10件)： ニトロアレーン ,  水素化 ,  化学選択性 ,  洞察 ,  現実 ,  反応条件 ,  金属表面 ,  吸着 ,  DFT ,  研究