文献

J-GLOBAL ID：201702269996904693   整理番号：17A0529563

表面酸化エピタキシャル法における温制備被覆導体NIOシード層【JST・京大機械翻訳】

The Fabrication of NiOseed Layer for Coated Conductor at Medium Temperature by the Surface-oxidation Epitaxy Method

著者 (4件)： Zhu Xiaolei (Superconductivity and New Energy R&-D Center Southwest Jiaotong University,Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials,Ministry of Education of China) ,  Zhao Yong (Superconductivity and New Energy R&-D Center Southwest Jiaotong University,Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials,Ministry of Education of China) ,  Pu Minghua (Superconductivity and New Energy R&-D Center Southwest Jiaotong University,Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials,Ministry of Education of China) ,  Zhang Hong (Superconductivity and New Energy R&-D Center Southwest Jiaotong University,Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials,Ministry of Education of China)
資料名： Diwen Wuli Xuebao  (Diwen Wuli Xuebao)
巻： 38  号： 6  ページ： 33-38  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2352A  ISSN： 1000-3258  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 高温超伝導被覆導体は現在のエネルギー危機を解決する重要な複合材料の一つであり、経済、有効、省エネルギーの製造技術はコーティング導体の広い応用のキーである。本論文では,表面酸化法を用いてNI-WTを調製した。5%W基板上に普Ya下法により,立方晶構造のNIOシード層を調製した。酸化温度と酸化時間の2つの主要因を分析することによって,NIOの成長条件は,普Ya°Cでの20°Cの保持時間であることが判明した。高温(空気中1000°C以上)と比較して,酸化膜の温度は低下した。薄膜の厚さは約650NMであった。最後に,YBA_2CU_3O_(7-Δ)/SMBIO_3複合層を,NIO薄膜上に化学蒸着し,そして,超伝導転移温度は,89Kであり,そして,77Kの臨界電流密度中温表面酸化法は,被覆導体の調製のための実用的経路を提供した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *酸化 ,  生産技術 ,  臨界電流密度 ,  エネルギー危機 ,  薄膜 ,  中温 ,  保持時間 ,  *導体 ,  高温 ,  省エネルギー
準シソーラス用語： 超伝導転移温度 ,  成長条件 ,  *被覆導体 ,  *シード層 ,  *表面酸化 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： Coated conductors ,  surface-oxidation epitaxy ,  NiO seed layer

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  超伝導材料  (BM04041W)

タイトルに関連する用語 (4件)： 表面酸化 ,  エピタキシャル ,  被覆導体 ,  シード層