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J-GLOBAL ID：201702270333183302   整理番号：17A0526994

水素シルセスキオキサンから官能化ケイ素ナノ結晶へ

From Hydrogen Silsesquioxane to Functionalized Silicon Nanocrystals

著者 (14件)： CLARK Rhett J. (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  AGHAJAMALI Maryam (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  GONZALEZ Christina M. (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  HADIDI Lida (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  ISLAM Muhammad Amirul (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  JAVADI Morteza (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  MOBAROK Md Hosnay (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  PURKAIT Tapas K. (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  ROBIDILLO Christopher Jay T. (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  SINELNIKOV Regina (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  THIESSEN Alyxandra N. (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  WASHINGTON John (Concordia Univ. Edmonton, Alberta, CAN) ,  YU Haoyang (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  VEINOT Jonathan G. C. (Univ. Alberta, Alberta, CAN)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 29  号： 1  ページ： 80-89  発行年： 2017年01月10日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水素シルセスキオキサン(HSQ)の高温処理によるケイ素ナノ結晶合成のVeinotグループの方法を紹介した。HSQは市販されているケイ素が多い酸化物(HSiO_1.5)で,電子ビームレジストとして使用されている。5%H₂/95%Arから成るガスを流しながら,僅かに減圧で1100°C1hr加熱するとSiとSiO₂に分解する。SiO₂中でSiはクラスターを形成し,ナノ結晶が生成し複合体となる。これをエタノール中で粉砕し,49%HFを添加して水素末端のケイ素ナノ結晶を得た。これを,熱,光,ラジカル開始とLewis酸開始によりドデカンで化学修飾したSiナノ結晶が得られることを紹介した。最後にX線回折,光ルミネセンス,IR分光法,X線光電子スペクトルによる特性評価法を説明した。

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *ナノ結晶 ,  半導体 ,  *有機ケイ素化合物 ,  *官能化 ,  *化学合成 ,  処理 ,  クラスタ ,  粉砕 ,  フッ化水素 ,  *添加物効果 ,  水素化 ,  *化学修飾 ,  *アルカン ,  X線回折 ,  光ルミネセンス ,  X線光電子スペクトル ,  赤外吸収スペクトル
準シソーラス用語： 高温処理 ,  *水素シルセスキオキサン

分類 (1件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

物質索引 (1件)： ドデカン

タイトルに関連する用語 (4件)： 水素シルセスキオキサン ,  官能化 ,  ケイ素 ,  ナノ結晶