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J-GLOBAL ID:201702270536375597   整理番号:17A1652578

バルク基板上に成長させた薄膜について軟X線透明度を得るための一般的アプローチ

A general approach to obtain soft x-ray transparency for thin films grown on bulk substrates
著者 (14件):
資料名:
巻: 88  号: 10  ページ: 103701-103701-6  発行年: 2017年10月 
JST資料番号: D0517A  ISSN: 0034-6748  CODEN: RSINAK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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我々は軟X線及び極端紫外スペクトル領域での実験のための,薄いバルク試料対透明度への一般的アプローチを述べる。この方法は集束イオンビームミリングが後続する機械研磨に頼る。それは高い表面品質の一様に薄い区域に帰着し,透過でのナノ規模画像化に適する。原理証明実験で商業的ハードドライブガラスディスク上のナノ規模磁気ビットを,軟X線スペクトロホログラフィによって30nm以下の空間分解能で画像化する。その上我々は,リソグラフィ的にパターン形成した試験体の吸収コントラストによる画像化を説明する。我々のアプローチはアモルファスと結晶の両基板に適し,いろいろの普通のエピタクシ成長基盤で試験した。100μm2を超える縦薄肉化面積と薄さ150nmの残り基板厚さが,容易に達成できる。我々のアプローチは前もって成長させた薄膜の保存を可能にし,ナノ集束電子回折から,我々はこの過程によって誘起される形態的変化の証拠がないことをみいだし,イオン注入深さ分布の数値シミュレーションと一致する。我々は我々の方法が広く利用でき,特にエピタキシャル薄膜のナノ規模画像化に,有用であることを期待する。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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X線回折法 
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