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J-GLOBAL ID：201702271197198493   整理番号：17A0821031

イリジウム触媒を用いた三級アミド基選択的な還元的求核付加反応の開発

著者 (5件)： 高橋芳人 (慶応大 理工) ,  寄立麻琴 (慶応大 理工) ,  中島実奈美 (慶応大 理工) ,  佐藤隆章 (慶応大 理工) ,  千田憲孝 (慶応大 理工)
資料名： 日本化学会春季年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 97th  ページ： ROMBUNNO.3G2-33  発行年： 2017年03月03日 
JST資料番号： S0493B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アミド基への求核付加反応は高い有用性にも関わらず,低い求電子性のため困難である。この問題を解決するため,Vaska錯体を用いた触媒的還元反応に着目し,アミド基選択的な求核付加反応を開発した。三級アミドを1mol%のVaska錯体と(Me2SiH)2Oで処理するとヒドロシリル化が進行し,続く求核付加と酸の添加により望みの還元的求核付加反応が進行した。本反応は高い官能基許容性を示し,エステルなど様々な官能基存在下アミド基選択的に反応が進行した。(著者抄録)

シソーラス用語： *遷移金属触媒 ,  アミン ,  カルボニル化合物 ,  基 ,  *求核付加反応 ,  イリジウム錯体 ,  *選択性 ,  シロキサン
準シソーラス用語： Vaska錯体 ,  アミド基 ,  *イリジウム触媒 ,  *化学選択性

分類 (3件)： 付加反応,脱離反応  (CF02030M) ,  脂肪族アミン・イミン・第四アンモニウム・インモニウム  (CF03070L) ,  白金族元素の錯体  (CE01100E)

タイトルに関連する用語 (5件)： イリジウム触媒 ,  アミド基 ,  還元 ,  求核付加反応 ,  開発