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J-GLOBAL ID:201702271692197841   整理番号:17A1021088

NiPd単一および5X(Ni/Pd)多層薄膜のフェムト秒レーザ処理【Powered by NICT】

Femtosecond laser processing of NiPd single and 5x(Ni/Pd) multilayer thin films
著者 (10件):
資料名:
巻: 417  ページ: 16-22  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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フェムト秒時間領域におけるレーザ処理による単一および複合ニッケル-パラジウム試料の改質を研究した。試料は775nmレーザ波長,繰返し速度2kHz,200fsのパルス幅で集束されたTi:サファイアレーザビーム(Clark CPA2101)によって処理した。レーザ誘起形態変化は印加フルエンスへの依存性とレーザパルス数を示した。単一NiPd/Siと多層5X(Ni/Pd)/Si系上に形成された表面ナノ構造は,個々のNiおよびPd薄膜と比較した。結果は,表面粗さ,平行な周期的表面構造の形成,流体力学的特徴の出現と表面材料のアブレーションにおける増加を示した。低パルス数(10以下のパルス)と低パルスエネルギー範囲(μJ1.7ではない)で,二種類のレーザ誘起周期的表面構造(LIPSS)を観測することができる:低及び高空間周波数LIPSS(HSFLとLSFL)。全ての試料に対して,測定したLSFL周期は単一パルス作用中の薄膜表面にのみ生成されたリップルの720nmであった。多重パルス照射の場合には,全ての調べた薄膜上に生成されたLSFLsの周期はパルスエネルギーの増加と共に減少する傾向を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  レーザ照射・損傷 
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