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J-GLOBAL ID：201702271966673432   整理番号：17A0154424

γ-Al₂O₃バッファー層を用いたSi基板上のFe₃O₄作製

著者 (7件)： 高橋望 (北大) ,  HUMINIUC Teoder (ヨーク大) ,  山本雄太 (北大) ,  柳瀬隆 (北大) ,  島田敏宏 (北大) ,  廣畑貴文 (ヨーク大) ,  長浜太郎 (北大)
資料名： 応用物理学会北海道支部/日本光学会北海道支部合同学術講演会講演予稿集  (応用物理学会北海道支部学術講演会・日本光学会北海道支部講演予稿集)
巻： 52nd-13th  ページ： 22  発行年： 2017年01月07日 
JST資料番号： L5918A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *γアルミナ ,  バッファ層 ,  *ウエハ【IC】 ,  *酸化鉄 ,  フェライト ,  スピネル型結晶 ,  MBE成長 ,  RHEED ,  *結晶構造 ,  X線回折 ,  電子顕微鏡観察 ,  スピネル型フェライト ,  *シリコンウエハ ,  透過型走査電子顕微鏡法
準シソーラス用語： *ケイ素基板 ,  分子線エピタクシー ,  透過型走査電子顕微鏡観察

分類 (2件)： 金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  酸化物の結晶成長  (BK13050I)

タイトルに関連する用語 (4件)： γ-AL2O3 ,  バッファー層 ,  Si基板 ,  作製