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J-GLOBAL ID：201702272019928396   整理番号：17A0945895

強酸性条件における持続型電極触媒酸素発生のための酸化コバルト結晶膜

Crystalline Cobalt Oxide Films for Sustained Electrocatalytic Oxygen Evolution under Strongly Acidic Conditions

著者 (7件)： MONDSCHEIN Jared S. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  CALLEJAS Juan F. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  READ Carlos G. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  CHEN Jamie Y. C. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  HOLDER Cameron F. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  BADDING Catherine K. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  SCHAAK Raymond E. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 29  号： 3  ページ： 950-957  発行年： 2017年02月14日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イオンビーム蒸着によってフッ素ドープ酸化スズ(FTO)基板に厚さ75,150および210nmのコバルト薄膜を成長させ,空気中400°Cで2時間加熱し,X線回折,走査電子顕微鏡法,透過型電子顕微鏡法,線形掃引ボルタンメトリー,誘導結合プラズマ分析および定電流水電解によってキャラクタリゼーションした。蒸着コバルトの酸化によって強固な固固界面を有するCo₃O₄結晶/FTOが得られた。Co₃O₄/FTO電極は0.5M H₂SO₄中の酸素発生反応において570mVの過電位で10mA/cm²の電流密度を12時間超維持した。電流密度を下げると数週間に渡って持続する酸素発生が実現された。

シソーラス用語： *水 ,  *アノード酸化 ,  *電極触媒 ,  *酸化コバルト ,  酸化スズ ,  薄膜成長 ,  電流密度 ,  過電圧
準シソーラス用語： FTO【酸化物】 ,  過電位

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸性条件 ,  電極触媒 ,  酸素発生 ,  酸化コバルト ,  結晶