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J-GLOBAL ID：201702272085605904   整理番号：17A0272024

SiO₂およびSiO₂マトリックス被覆層上でグラフト化Ru₁₂Ni錯体から変換したサイズ調整Ru/NiナノクラスタのXAFS(X線吸収微細構造)特性評価

XAFS Characterization of Size-regulated Ru/Ni Nanoclusters Transformed from a Grafted Ru₁₂Ni Complex on SiO₂ and SiO₂ Matrix Overlayers

著者 (4件)： MURATSUGU Satoshi (Nagoya Univ., Aichi, JPN) ,  YAMAGUCHI Atsuki (Nagoya Univ., Aichi, JPN) ,  YOKOTA Genichi (Nagoya Univ., Aichi, JPN) ,  TADA Mizuki (Nagoya Univ., Aichi, JPN)
資料名： KEK Progress Report (Web)  (KEK Progress Report (Web))
号： 2016-8  ページ： ROMBUNNO.136 (WEB ONLY)  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： U0583A  ISSN： 1344-6320  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (12件)： SiO2 ,  マトリックス ,  被覆層 ,  グラフト ,  錯体 ,  サイズ ,  Ru ,  Ni ,  ナノクラスタ ,  XAFS ,  X線吸収微細構造 ,  特性評価