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J-GLOBAL ID：201702272254180043   整理番号：17A0556132

逆問題手法による計測技術 リソグラフィにおける逆問題手法を使用した光計測

著者 (1件)： 稲秀樹 (キヤノン)
資料名： O plus E  (O plus E)
号： 450  ページ： 464-468  発行年： 2017年04月25日 
JST資料番号： Z0994A  ISSN： 0911-5943  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体デバイスの微細加工技術(パターリング)にはリソグラフィ技術が使用されており,半導体露光装置により,回路パターンをウェハ上に光学像を形成して転写うる。本稿では,事前に学習した情報を使用した方法に関して,逆問題手法を使用した計測系を検討している。ライブラリーの作製は,計測対象パターンと,基本となる形状情報を基に,そのパターンを光学シミュレータ上で徐々に変形させていき,各形状毎に得られる分光特性を,光学シミュレーションにより算出し,データベース化する。この光学シミュレーションでは,RCWA(Rigorous Coupled-Wave Analysis)が使用され,周期性のある構造の中での電場をフーリエ級数で表し,固有値方程式を解く。逆問題手法の使用は,「想定外」の計測物に対して計測エラーの発生を回避することは,非常に困難である。この問題を避けるために,光CD計測では,Dynamic Scatterometoryが提案されている。この方法は,不具合が発生した時にその場で学習するもので,実際の計測時に複素屈折率を計測して,その値を使用して,その場でライブラリーを形成していくものである。「逆問題」手法の開発が,半導体技術の進歩に貢献することを,期待する。

シソーラス用語： *光学的測定 ,  *リソグラフィー ,  *逆問題 ,  シミュレーション ,  測定誤差 ,  *固有値 ,  処理 ,  ライブラリ【計算機】 ,  *Fourier級数 ,  *複素屈折率 ,  電場
準シソーラス用語： *光計測 ,  リソグラフィー技術 ,  光学シミュレーション ,  計測誤差 ,  その場処理 ,  像処理ライブラリ

分類 (2件)： 半導体集積回路  (NC03162T) ,  解析学  (AB05000M)

引用文献 (6件)：

• 例えば http://www.itrs.net/ITRS%201999-2014%20Mtgs,%20Presentations%20&%20Links/2013ITRS/2013TableSummaries/2013ORTC_SummaryTable.pdf
• 光設計研究グループ第24回研究会(2001/12/7)
• Jpn J Appl Phys 50(6), 06GJ06-06GJ06-6, 2011-06-25
• Proc. SPIE, 1261, 139-161 (1990)
• US2014/0060148 A1

タイトルに関連する用語 (6件)： 問題 ,  手法 ,  計測技術 ,  リソグラフィ ,  逆問題 ,  光計測