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J-GLOBAL ID：201702272370801938   整理番号：17A0132884

ナノ構造CoFeB/SiO₂ナノ構造薄膜中の電子ビーム誘起ホウ素拡散のその場TEM研究と相及び微細構造発展への効果

In situ TEM study of electron-beam radiation induced boron diffusion and effects on phase and microstructure evolution in nanostructured CoFeB/SiO₂ thin film

著者 (8件)： Liu B. H. (Department of Product, Test and Failure Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore) ,  Teo H. W. (Department of Quality and Reality Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore) ,  Mo Z. H. (Department of Quality and Reality Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore) ,  Mai Z. H. (Department of Product, Test and Failure Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore) ,  Lam J. (Department of Product, Test and Failure Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore) ,  Xue J. M. (Department of Materials Science and Engineering, National University of Singapore, 117575 Singapore) ,  Zhao Y. Z. (Department of Product, Test and Failure Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore) ,  Tan P. K. (Department of Product, Test and Failure Analysis, Globalfoundries Singapore Pte. Ltd., 738406 Singapore)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 121  号： 1  ページ： 015111-015111-11  発行年： 2017年01月07日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *電子ビーム ,  *拡散 ,  *相組成 ,  *微細構造 ,  透過型電子顕微鏡 ,  析出 ,  *層 ,  放射線量 ,  アモルファス化 ,  界面 ,  核形成 ,  *コバルト合金 ,  鉄含有合金 ,  ホウ素含有合金 ,  薄膜 ,  *二酸化炭素 ,  ナノ構造 ,  ホウ素 ,  相変態 ,  電子照射
準シソーラス用語： *積層

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属の放射線による構造と物性の変化  (BK16122N)

タイトルに関連する用語 (11件)： ナノ構造 ,  SiO2 ,  薄膜 ,  電子ビーム ,  誘起 ,  ホウ素 ,  拡散 ,  その場TEM ,  研究 ,  微細構造 ,  発展