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J-GLOBAL ID：201702272420317367   整理番号：17A1060759

密度汎関数計算からのVN及びVCの間の界面の構造特性と結合特性【Powered by NICT】

Structural properties and bonding characteristic of interfaces between VN and VC from density functional calculations

著者 (8件)： Lv Z. (Key Laboratory of Advanced Forging & Stamping Technology and Science (Yanshan University), Ministry of Education of China, Qinhuangdao 066004, China) ,  Lv Z. (State Key Laboratory of Metastable Material Science and Technology, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, China) ,  Xiao S. (Key Laboratory of Advanced Forging & Stamping Technology and Science (Yanshan University), Ministry of Education of China, Qinhuangdao 066004, China) ,  Xiao Z. (Key Laboratory of Advanced Forging & Stamping Technology and Science (Yanshan University), Ministry of Education of China, Qinhuangdao 066004, China) ,  Qian L. (Key Laboratory of Advanced Forging & Stamping Technology and Science (Yanshan University), Ministry of Education of China, Qinhuangdao 066004, China) ,  Wang W. (Key Laboratory of Advanced Forging & Stamping Technology and Science (Yanshan University), Ministry of Education of China, Qinhuangdao 066004, China) ,  Zhou Y. (Key Laboratory of Advanced Forging & Stamping Technology and Science (Yanshan University), Ministry of Education of China, Qinhuangdao 066004, China) ,  Fu W. (State Key Laboratory of Metastable Material Science and Technology, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, China)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 718  ページ： 139-149  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 密度汎関数理論に基づいて,界面構造,付着の理想仕事とVN(100)/VC(100),VN(110)/VC(110),およびVN(111)/VC(111)界面の界面結合を調べた。結果は,(100)表面がVNとVCの両方に対して(110)よりも安定であることを明らかにした。,非化学量論的表面として,VC(111)とVN(111)の表面エネルギーではない定数V(またはC/N)の異なる化学ポテンシャルによって変化することを示した。V末端構造はVC(111)表面のC終端構造よりも安定であった。VN(111)表面に関しては,V末端構造はNリッチ領域におけるN末端のものよりより安定な,N-末端構造はV領域におけるV終端よりもより安定な対照的であった。最も安定な(111)界面の接着エネルギーは(100)界面および(110)界面のそれより大きかった。界面終端構造は界面安定性において重要な役割を果たし,VCまたはVN結合形成との界面であるVVとCN結合を有する他の界面よりも安定であった。積層順序も界面安定性に影響し,VN(VC)構造の連続性を保つ建物タイプは高い安定性を示した。これらの理論的分析は,多層膜調製中の方位制御に関するいくつかの示唆を提供するであろう。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 密度汎関数法 ,  多層膜 ,  化学ポテンシャル ,  方向制御 ,  *界面 ,  非化学量論 ,  電荷分布 ,  *構造特性 ,  連続性 ,  表面エネルギー ,  第一原理
準シソーラス用語： 積層順序 ,  接着エネルギー ,  界面構造 ,  *密度汎関数計算 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 界面構造 ,  接着エネルギー ,  電荷分布 ,  第一原理

分類 (5件)： Auger電子放出,二次電子放出  (BM09040O) ,  その他の無機工業薬品,無機材料  (YB02090K) ,  金属相変態  (CB03020W) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 密度汎関数計算 ,  VC ,  界面 ,  構造特性