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J-GLOBAL ID：201702272828832029   整理番号：17A0388782

ボトムアップグラフェンナノリボンの高真空合成と環境安定性【Powered by NICT】

High vacuum synthesis and ambient stability of bottom-up graphene nanoribbons

著者 (7件)： Fairbrother Andrew (Nanotech@surfaces Laboratory, Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, 8600 Duebendorf, Switzerland. [e-mail]) ,  Sanchez-Valencia Juan-Ramon ,  Lauber Beat ,  Shorubalko Ivan ,  Ruffieux Pascal ,  Hintermann Tobias ,  Fasel Roman
資料名： Nanoscale  (Nanoscale)
巻： 9  号： 8  ページ： 2785-2792  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェンのようなカーボン系ナノ材料はアプリケーション開発における重要な点であり,実験室規模で証明されている,それらの有望な可能性は,商業化のための工業的設定に翻訳されなければならない。はかなりのバンドギャップを示すのでグラフェンナノリボン特にはいくつかの電子応用におけるグラフェンの一つの限界を克服した。しかし,ボトムアップグラフェンナノリボンの合成は超高真空条件,コストと製造環境における維持が困難であった下で最も一般的に行われている。さらに,周囲条件下でグラフェンナノリボンの安定性や技術的に関連する基板およびそれ以後の素子化工程への移動の間にほとんど知られていない。本研究では,これらの挑戦課題のいくつかを取り上げ,最初の容易に得られる高真空条件下でボトムアップグラフェンナノリボンを合成し,重合段階中の適切な結合を妨害する原因となる残留ガスとして水と酸素を明らかにした。そして第二に,Raman分光法を用いて周囲条件下で貯蔵中のナノリボンの安定性を調べるために,任意の基板への移動後,電界効果トランジスタ素子の作製,合成後数か月も構造的に完全なナノリボンを示す後に。これらの知見は,それらの商業化で生じる可能性があるいくつかの限界に対処することにより,グラフェンナノリボン技術の可能性を実証した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 超高真空 ,  *グラフェン ,  Raman分光法 ,  商業化 ,  重合 ,  炭素 ,  バンドギャップ ,  残留ガス ,  ナノ材料 ,  FET【トランジスタ】 ,  *高真空 ,  酸素
準シソーラス用語： *ナノリボン ,  *グラフェンナノリボン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： ボトムアップ ,  グラフェンナノリボン ,  高真空 ,  環境 ,  安定性